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        什么是LPCVD?

        日期:2024-06-15 05:50
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        摘要:
        LPCVD--Low Pressure Chemical Vapor Deposition 低壓力化學氣相沉積法用于氧化硅、氮化物、多晶硅沉積,過程在管爐中執行,要求也相當高的溫度。
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